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介紹了脈沖激光沉積技術(shù)的發(fā)展過(guò)程發(fā)展過(guò)程：脈沖激光沉積的研究和發(fā)展處處受制。實(shí)際上，當(dāng)時(shí)激光技術(shù)還不夠成熟，可獲得的激光種類(lèi)有限，輸出的激光既不穩(wěn)定又重復(fù)頻率又過(guò)低，使得任何實(shí)際的膜形成工藝都無(wú)法實(shí)施...

離子束濺射的優(yōu)點(diǎn)：1.離子束濺膜是一種動(dòng)量交換，它使固體物質(zhì)內(nèi)的原子.分子進(jìn)入氣相，濺射平均能量為10eV。經(jīng)過(guò)真空蒸發(fā)處理后，顆粒體積增加了100倍左右，在沉積到基體表面之后，仍然有足夠的動(dòng)能向基體...

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)原理是將10~100MHZ高頻電壓置于平板電極之間能在試樣之前產(chǎn)生幾百微米厚的離子層。當(dāng)化學(xué)腐蝕時(shí)，離子以一種高速碰撞方式完成化學(xué)反應(yīng)腐蝕。所以，為了得到高速、垂直腐蝕表面，大多數(shù)加速離...

采用蒸發(fā)方式在襯底上蒸鍍微米級(jí)厚度的高質(zhì)量銦柱，是實(shí)現(xiàn)高密度三維互連工藝的關(guān)鍵設(shè)備。銦蒸鍍系統(tǒng)由工藝腔室、真空系統(tǒng)、電阻發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、膜厚系統(tǒng)、離子源系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)等組成。樣品尺寸：≤200...

激光直寫(xiě)光刻機(jī)知識(shí)點(diǎn)科普激光直寫(xiě)光刻機(jī)知識(shí)是一種多功能激光光刻機(jī)，采用固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源，直接在光刻膠或紫外敏感膠中刻劃出微結(jié)構(gòu)，直寫(xiě)面積可達(dá)6英寸，較小特征尺寸(寬)可達(dá)1微米...

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)知識(shí)點(diǎn)介紹儀器結(jié)構(gòu)：它主要由主機(jī)、控制系統(tǒng)、真空路等組成。1.主機(jī)：包括電壓源、電子槍、坩堝等；2.控制系統(tǒng)：工藝控制、溫控等系統(tǒng)；3.真空氣路系統(tǒng)：將初空泵和低溫真空泵結(jié)合使用，使設(shè)...

此設(shè)備屬于薄膜制備設(shè)備，首先，用于生長(zhǎng)各種微納米尺度的單層膜或多層膜材料，可制備超硬膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導(dǎo)薄膜、磁性薄膜、光學(xué)薄膜，以及各種具有特殊功能的薄膜，尤其是在微電子機(jī)械系統(tǒng)、微流體、納米壓...

通過(guò)幾年的發(fā)展，粉體技術(shù)已形成多種制備加工工藝。而長(zhǎng)期以來(lái)，由于缺乏有效的精密手段，表面涂層技術(shù)是改善粉末理化性能的重要手段。常規(guī)的液相涂覆或氣相涂布方法不能準(zhǔn)確地控制均勻性和厚度，制約了涂膜技術(shù)的進(jìn)...

分子束外延是一種用于物理，化學(xué)，材料科學(xué)等領(lǐng)域的分析儀器。在半導(dǎo)體工藝中，分子束外延技術(shù)是近十幾年發(fā)展起來(lái)的一種新型技術(shù)，它是在超高真空條件下，與真空蒸鍍法相似，由組成晶體的各成分與摻雜的原子(分子)...

由很薄的絕緣體或正常導(dǎo)體隔開(kāi)，或由截面很小的超導(dǎo)橋隔開(kāi)，因而僅存在弱耦合的兩個(gè)超導(dǎo)體形成的結(jié)。[6]約瑟夫森結(jié)（Josephsonjunction），或稱(chēng)為超導(dǎo)隧道結(jié)。一般是由兩塊超導(dǎo)體夾以某種很薄的...