離子束濺射的優點：
1.離子束濺膜是一種動量交換，它使固體物質內的原子.分子進入氣相，濺射平均能量為10eV。經過真空蒸發處理后，顆粒體積增加了100倍左右，在沉積到基體表面之后，仍然有足夠的動能向基體表面遷移，使膜與基體結合牢固。
2.任何材料都可以濺射涂層，材料的濺射性差異小于其蒸發特性，甚至高熔點材料都可以濺射，對于合金、靶材化合物的材料容易形成與靶材組分比例相同的薄膜，所以離子束濺膜的應用非常廣泛。
3.一般來說，濺射膜中的入射離子是通過氣體放電得到，在10-2Pa~10Pa之間，濺射離子往往與真空腔室內的氣體分子發生碰撞，造成濺射離子的隨機偏離。一般說來，濺射是在較大的靶面區域出，所以比真空鍍更能得到厚度均勻的薄膜層，對于有勾槽.臺階等的鍍件，可用陰極效應來降低膜厚的差值。但是，高壓力時，濺射會使膜中含氣分子增多。
4.離子束可以精確聚焦和掃描，可以改變靶與基質材料，并且可以獨立地控制離子束的能量和電流，而不影響離子束特性。等離子束濺射法可以精確控制，束流的大小與流場方向有關，濺射出的原子能直接沉積薄膜，因此，離子束濺射法可以作為一種研究薄膜的方法。
離子束濺射缺陷。
離子束濺射法的主要缺點是靶區過小，沉積速率一般較低。此外，濺射法不適用于制備厚度均勻的大面積薄膜。飛濺裝置復雜，設備運行費用高。
