采用蒸發方式在襯底上蒸鍍微米級厚度的高質量銦柱，是實現高密度三維互連工藝的關鍵設備。
銦蒸鍍系統由工藝腔室、真空系統、電阻 發源系統、樣品臺系統、膜厚系統、離子源系統以及控制系統等組成。
樣品尺寸：≤200mm；
薄膜膜厚不均勻性：≤±5%；薄膜膜厚重復性≤±3%；
極限真空度：優于1E- 7Torr；
恢復抽真空時間：從大氣~5E-6Torr小于30分鐘；
系統漏率： 發室空氣泄漏率不大于 5E-5Torr.L/s；
樣品臺轉速可調，具有冷卻功能，溫度范圍-70℃至200℃；
集成一個 冷襯板組合，位于樣品臺垂直下方；
可進行在線膜厚測量，晶振膜厚控制儀集成于系統PLC，可用于蒸發源和擋板
的自動操作，能精確的進行過程控制。
工藝腔體采用鋁合金或不銹鋼；高度900毫米至1200毫米，內徑650毫米至700毫米，
保證蒸發鍍膜入射角度；
配置一套功率≥6KW的專用蒸發源，帶流量感應探頭的冷卻水回路，提供一套陰極離子源，用于樣品前處理；
以上就是今日小編為大家介紹的蒸銦設備。
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