v 功能特點
ü 本底真空：2E-10torr
ü 4個UHV超高真空陰極
ü 系統可烘烤
ü 共濺或順序濺射系統
ü 4軸加熱樣品臺，可旋轉、XYZ方向均可移動
ü SiC加熱器，加熱溫度850℃以上
ü 多腔體真空互聯
ü 手動或自動LoadLock上下片系統
v 沉積材料
ü Nb、Ti、Al、NbTi等低溫超導材料
ü Fe、Co、Ni及合金磁性等材料
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v功能特點ü本底真空：2E-10torrü4個UHV超高真空陰極ü系統可烘烤ü共濺或順序濺射系統ü4軸加熱樣品臺
v 功能特點
ü 本底真空：2E-10torr
ü 4個UHV超高真空陰極
ü 系統可烘烤
ü 共濺或順序濺射系統
ü 4軸加熱樣品臺，可旋轉、XYZ方向均可移動
ü SiC加熱器，加熱溫度850℃以上
ü 多腔體真空互聯
ü 手動或自動LoadLock上下片系統
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