v 功能特點(diǎn)
ü 本底真空-8Torr-10Torr
ü 四軸樣品臺(tái)，XYZ方向均可調(diào)節(jié)，可傾斜，可旋轉(zhuǎn)
ü 多靶位靶材臺(tái)，帶水冷，支持多4個(gè)靶位，可旋轉(zhuǎn)切換靶位
ü RFICP射頻離子源
ü霍爾或考夫曼輔助離子源
ü 雙掩膜Dual mask
ü UpStream/Downstream控制
ü 膜厚監(jiān)控儀
ü 可增加OES等離子發(fā)射光譜儀定性分析等離子成分
ü 可增加RGA四極質(zhì)譜儀
ü 可集成磁控濺射陰極，實(shí)現(xiàn)磁控濺射鍍膜功能
ü 可增加進(jìn)樣室，手動(dòng)/自動(dòng)上下片基片
ü 可實(shí)現(xiàn)離子束沉積、離子束刻蝕和磁控濺射多功能系統(tǒng)
（可根據(jù)客戶要求定制）
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