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簡要描述：熱蒸鍍設(shè)備是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機(jī)材料等）置於真空環(huán)境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發(fā)，以最直接的方式蒸發(fā)到基板上，然後在基板上凝結(jié)成固態(tài)形成薄膜。
熱蒸鍍設(shè)備
熱蒸發(fā)製程是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機(jī)材料等）置於真空環(huán)境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發(fā)，以最直接的方式蒸發(fā)到基板上，然後在基板上凝結(jié)成固態(tài)形成薄膜。熱蒸發(fā)比濺鍍提供更快的蒸發(fā)速率，但是，其容納材料的舟或坩堝尺寸有限，並且難以控制其蒸發(fā)速率。該方法通常用於小規(guī)模同時控制多組電阻熱源來沉積電極，如單層薄膜或共蒸發(fā)薄膜。
熱蒸鍍設(shè)備
北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊，專精的服務(wù)，提供理想的解決方案。
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