v 功能特點
ü 本底真空-8Torr-10Torr
ü 四軸樣品臺，XYZ方向均可調節(jié)，可傾斜，可旋轉
ü RFICP射頻離子源
ü霍爾或考夫曼輔助離子源
ü 雙掩膜Dual mask
ü UpStream/Downstream控制
ü 膜厚監(jiān)控儀
ü 可增加OES等離子發(fā)射光譜儀定性分析等離子成分
ü 可增加RGA四極質譜儀
ü 可增加進樣室，手動/自動上下片基片
（可根據(jù)客戶要求定制）
離子束刻蝕機
產品二維碼| 參 考 價: | 面議 |
具體成交價以合同協(xié)議為準
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