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簡要描述：德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相關參數，其他過程均可自動完成。
德國電子束曝光利用電子束在涂有電子抗蝕劑的晶片上直接描畫或投影復印圖形的光刻技術。電子抗蝕劑是一種對電子敏感的高分子聚合物。經過電子束掃描過的電子抗蝕劑發生分子鏈重組，使曝光圖形部分的抗蝕劑發生化學性質改變，經過顯影和定影，獲得高分辨率的抗蝕劑曝光圖形。現代的電子束光刻設備已經能夠制作小于10納米的精細線條結構，也可制作光學掩模版。
德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相關參數，其他過程均可自動完成。
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